氦質譜檢漏儀的主要性能指標：1、可檢漏率：即氦質譜檢漏儀所能檢出的漏孔的漏率。2、響應(消除)時間：指一定流量的探索氣體進入氦質譜檢漏儀后，電子和真空系統(tǒng)需要一定的響應時間，漏率指示才能達到固定值；反之，停止供氣后，漏率指示不能立即回零，需要一定時間的下降過程，通常由于氦氣的吸附和脫附作用，消除時間稍長于響應時間。3、啟動時間：指氦質譜檢漏儀自接通電源到能進行檢漏的時間。氦質譜檢漏儀以其高靈敏度和準確性而通常應用于整體防漏等級較高的壓力容器上。影響氦質譜檢漏儀靈敏度的因素包括實際檢測條件、輔助真空系統(tǒng)以及操作人員的技術等多方面。氦質譜檢漏儀的漏孔漏率是指一個大氣壓的干燥空氣通過漏孔漏向真空側的漏氣速率。分體式氦檢儀多少錢一臺

氦檢儀的基本原理是采集被檢件中的氣體將其電離，根據(jù)不同種類氣體離子質荷比不同的特點，利用磁偏轉分離原理將其區(qū)分開來。儀器只對示漏氣體氦氣有相應信號，而對其他氣體沒有反應，屬于唯1性氦檢儀器。檢漏過程中，一旦出現(xiàn)信號，就說明有氦氣通過漏孔進入被檢件，從而指示出漏孔的位置與大小。而之所以選擇氦氣作為示漏氣體，主要是因為氦質量輕，易于穿過漏孔，擴散快，對分析設備制造的要求相對簡單；同時氦氣在空氣中含量少，本底壓力小，又為惰性氣體，不易發(fā)生反應等等，都為提高儀器靈敏度創(chuàng)造了條件。分體式氦檢儀多少錢一臺氦檢儀是對密封容器的泄漏進行快速定位和定量測量的儀器。

氦檢儀是什么？氦檢儀是用氦氣為示漏氣體的專門用于檢漏的儀器，它具有性能穩(wěn)定、靈敏度高的特點。是真空檢漏技術中靈敏度較高，用得較普遍的氦檢儀器。氦檢儀是磁偏轉型的質譜分析計。單級磁偏轉型儀器普遍地用于各種真空系統(tǒng)及零部件的檢漏。雙級串聯(lián)磁偏轉型儀器與單級磁偏轉型儀器相比較，本底噪聲明顯減小。適用于超高真空系統(tǒng)、零部件及元器件的檢漏。氦檢儀由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。

氦檢儀現(xiàn)已普遍應用于半導體設備檢漏。半導體設備及材料需要檢漏原因：1、半導體設備要求高真空，比如磁控濺射臺、電子束蒸發(fā)臺、ICP、PECVD等設備。出現(xiàn)泄漏就會導致高真空達不到或需要大量的時間，耗時耗力；2、在高真空環(huán)境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現(xiàn)泄漏周圍環(huán)境中的灰塵和懸浮顆?；驂m埃就會對晶元造成污染，對半導體的特性改變并破壞其性能，因此在半導體器件生產(chǎn)過程中必須進行氦質譜檢漏；3、一些半導體設備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經(jīng)過氦質譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設備能及時抽走未反應氣體和氣態(tài)反應產(chǎn)物，保障工作人員安全和大氣環(huán)境。4、芯片封裝，一旦出現(xiàn)泄漏，芯片就會失效。綜上所述，氦檢儀在半導體行業(yè)起著至關重要的作用。氦檢儀是真空檢漏技術中靈敏度較高，用得較普遍的氦檢儀器。

氦檢儀常用的幾種檢漏方法：氦質譜檢漏方法較多，根據(jù)被檢工件的測量目的可分為兩種類型，一種是漏點型，另一種是漏率型；在實際檢驗過程中，應根據(jù)檢驗目的選擇較合理的方法，并根據(jù)被檢件的具體情況靈活運用各種檢漏方法。測定漏點型氦質譜檢漏方法。確定漏點型既是確定要檢部件的具體漏點或漏孔的位置,在大部件或大型部件中較為常見,如衛(wèi)星、導彈彈體、彈頭、輸氣管道、氣罐、油罐、鍋爐等。噴氦法氦質譜檢漏方法。噴氦法又叫噴吹法，較常用、較方便的檢漏方法。一般用于檢測體積相對較小的部件,將被檢器件和儀器連通,在抽好真空后,在被檢器件可能存在漏孔的地方(如密封接頭,焊縫等)用噴頭噴氦。氦檢儀的示蹤氣體也可以是其他元素，但通常選用氦氣。分體式氦檢儀多少錢一臺

敏度、反應時間、消除時間、極限真空度及儀器入口處抽速是評價氦質譜檢漏儀的主要性能指標。分體式氦檢儀多少錢一臺

氦檢儀測量數(shù)據(jù)處理：漏率示值誤差，①漏率的溫度修正，標準漏孔漏率易受溫度變化影響，溫度對標準漏孔漏率的影響一般為3%/℃ ，所以如果實際環(huán)境溫度和標準漏孔證書中溫度不一致，需要將標準漏孔證書中漏率和標準漏孔漏率的氦檢儀示值修正至同一環(huán)境溫度下來計算，并在測試結果中加以說明，修正方法如下:方法一: 將標準漏孔證書中的漏率修正至實際環(huán)境溫度下，用標準漏孔證書中的漏率加上或減去溫度對標準漏孔漏率的影響系數(shù)計算值；方法二: 將標準漏孔漏率的氦檢儀示值平均值修正至標準漏孔證書中環(huán)境溫度下，用標準漏孔漏率的氦檢儀示值平均值加上或減去溫度對標準漏孔漏率的影響系數(shù)計算值。分體式氦檢儀多少錢一臺

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